990,95% Reinheit Kristalline Hafniumstahl, Jodid, raffinierte Metallstange für die Luft- und Raumfahrtindustrie
Grundlegende Eigenschaften
Herkunftsort:
China
Markenname:
zhuzhourunfeng
Zertifizierung:
CAS 7440-67-7
Modellnummer:
Vollständige Palette an Spezifikationen
Immobilienhandel
Preis:
POA
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Spezifikationen
| Form: | Hafniumstab | Purity: | 99,95 % |
| Material: | Hafnium | ||
| High Light: | 990,95% Reinheit Kristalline Hafniumstab |
||
Produkt-Beschreibung
99,95 % hochreiner kristalliner Hafniumstab – mit Jodid veredelter Metallstab für die Atomenergie- und Luft- und Raumfahrtindustrie – hervorragende Korrosions- und Hochtemperaturbeständigkeit
[Produktname]Hochreiner kristalliner Hafniumstab | 99,95 % Min. | Luft- und Raumfahrt- und Halbleiterqualität
Wichtigste Highlights
- Ultrahohe Reinheit: Erreicht eine Reinheit von Hf+Zr ≥ 99,95 % (3N5) durch fortschrittliche Iodid-Thermaldissoziationstechnologie.
- Anpassbare Zusammensetzung: Maßgeschneiderter Zirkoniumgehalt (Zr) im Bereich von 0,2 % bis 2,0 %, um spezifische Legierungs- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen.
- Premium-Morphologie: Lieferung in hochwertiger Stab-/Stabform, ideal für den direkten Einsatz beim Schmelzen, bei der Sputtertarget-Vorbereitung und beim Drahtziehen.
- Direkter Hersteller: Vollständige Industriekettenfähigkeit, die eine stabile Versorgung, strenge Qualitätskontrolle und schnelle Lieferung gewährleistet.
Produktdetails
- Produktform: Kristalliner Stab/Stab
- Reinheit: Hf+Zr ≥ 99,95 %
- Durchmesser: Standard 20–40 mm (auf Anfrage anpassbar)
- Verpackung: Vakuumversiegelte Verpackung, um Oxidation zu verhindern und einen sicheren Transport zu gewährleisten.
Hauptanwendungen
- Luft- und Raumfahrt und Superlegierungen: Aufgrund seiner außergewöhnlichen Hitze- und Korrosionsbeständigkeit ein wesentlicher Zusatzstoff für Hochtemperaturlegierungen, die in Raketendüsen, Triebwerken zur Lageregelung von Raumfahrzeugen und Triebwerkskomponenten für die Luft- und Raumfahrt verwendet werden.
- Halbleiter- und Sputtertargets: Dient als Premium-Rohstoff für die Herstellung hochreiner Hafniumtargets, die häufig in optischen Beschichtungen und fortschrittlichen Halbleiterabscheidungsprozessen eingesetzt werden.
- Plasmaschneiden: Das Kernmaterial für die Herstellung von Hochleistungs-Hafnium-Drähten und -Elektroden, das eine hervorragende Entladungsleistung und Haltbarkeit in Plasmaschneidgeräten gewährleistet.
- Nuklearindustrie: Wird in Steuerstäben und Schutzvorrichtungen von Kernreaktoren verwendet und nutzt seinen großen Einfangquerschnitt für thermische Neutronen.
Typische chemische Zusammensetzung
| Element | Hf + Zr | Zr (anpassbar) | Fe | C | N | O |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Inhalt (%) | ≥ 99,95 | ≤ 0,1 | ≤ 0,01 | ≤ 0,001 | ≤ 0,005 | ≤ 0,005 |

