990,95% di purezza cristallina bastone di hafnio ioduro Barra di metallo raffinata per l'industria aerospaziale

Proprietà di base
Luogo di origine: Cina
Marchio: zhuzhourunfeng
Certificazione: CAS 7440-67-7
Numero di modello: Gamma completa di specifiche
Proprietà Commerciali
Prezzo: POA
Condizioni di pagamento: L/C, T/T
Specifiche
Form: Asta di afnio Purity: 99,95%
Material: Hafnium
High Light:

990

,

95% di purezza

Descrizione di prodotto
Barra di afnio cristallino di elevata purezza al 99,95% - Barra di metallo raffinato con ioduro per l'industria dell'energia atomica e aerospaziale - Resistenza superiore alla corrosione e alle alte temperature

[Nome prodotto]Asta di afnio cristallino ad alta purezza | 99,95% minimo | Grado aerospaziale e semiconduttori

Punti salienti
  • Purezza ultraelevata: raggiunge una purezza di Hf+Zr ≥ 99,95% (3N5) ​​attraverso la tecnologia avanzata di dissociazione termica degli ioduri.
  • Composizione personalizzabile: contenuto di zirconio (Zr) personalizzato compreso tra 0,2% e 2,0% per soddisfare requisiti specifici di leghe e applicazioni.
  • Morfologia premium: fornita sotto forma di barra/asta di alta qualità, ideale per l'uso diretto nella preparazione del target di fusione, sputtering e trafilatura.
  • Produttore diretto: capacità completa della catena industriale che garantisce fornitura stabile, rigoroso controllo di qualità e consegna rapida.
Dettagli del prodotto
  • Forma del prodotto: barra/barra cristallina
  • Purezza: Hf+Zr ≥ 99,95%
  • Diametro: Standard 20-40mm (Personalizzabile su richiesta)
  • Imballaggio: imballaggio sottovuoto per prevenire l'ossidazione e garantire un trasporto sicuro.
Principali applicazioni
  • Aerospaziale e superleghe: un additivo essenziale per le leghe ad alta temperatura utilizzate negli ugelli dei razzi, nei propulsori per il controllo dell'assetto dei veicoli spaziali e nei componenti dei motori aerospaziali grazie alla sua eccezionale resistenza al calore e alla corrosione.
  • Target per semiconduttori e sputtering: funge da materia prima premium per la produzione di target di afnio ad elevata purezza, ampiamente utilizzati nei rivestimenti ottici e nei processi avanzati di deposizione di semiconduttori.
  • Taglio al plasma: il materiale di base per la produzione di fili ed elettrodi di afnio ad alte prestazioni, che garantisce eccellenti prestazioni di scarica e durata nelle apparecchiature di taglio al plasma.
  • Industria nucleare: utilizzato nelle barre di controllo e nei dispositivi di protezione dei reattori nucleari, sfruttando la sua ampia sezione trasversale di cattura dei neutroni termici.
Composizione chimica tipica
Elemento Hf+Zr Zr (personalizzabile) Fe C N O
Contenuto (%) ≥ 99,95 ≤ 0,1 ≤ 0,01 ≤ 0,001 ≤ 0,005 ≤ 0,005

990,95% di purezza cristallina bastone di hafnio ioduro Barra di metallo raffinata per l'industria aerospaziale 0

990,95% di purezza cristallina bastone di hafnio ioduro Barra di metallo raffinata per l'industria aerospaziale 1