990,95% di purezza cristallina bastone di hafnio ioduro Barra di metallo raffinata per l'industria aerospaziale
Proprietà di base
Luogo di origine:
Cina
Marchio:
zhuzhourunfeng
Certificazione:
CAS 7440-67-7
Numero di modello:
Gamma completa di specifiche
Proprietà Commerciali
Prezzo:
POA
Condizioni di pagamento:
L/C, T/T
Specifiche
| Form: | Asta di afnio | Purity: | 99,95% |
| Material: | Hafnium | ||
| High Light: | 990,95% di purezza |
||
Descrizione di prodotto
Barra di afnio cristallino di elevata purezza al 99,95% - Barra di metallo raffinato con ioduro per l'industria dell'energia atomica e aerospaziale - Resistenza superiore alla corrosione e alle alte temperature
[Nome prodotto]Asta di afnio cristallino ad alta purezza | 99,95% minimo | Grado aerospaziale e semiconduttori
Punti salienti
- Purezza ultraelevata: raggiunge una purezza di Hf+Zr ≥ 99,95% (3N5) attraverso la tecnologia avanzata di dissociazione termica degli ioduri.
- Composizione personalizzabile: contenuto di zirconio (Zr) personalizzato compreso tra 0,2% e 2,0% per soddisfare requisiti specifici di leghe e applicazioni.
- Morfologia premium: fornita sotto forma di barra/asta di alta qualità, ideale per l'uso diretto nella preparazione del target di fusione, sputtering e trafilatura.
- Produttore diretto: capacità completa della catena industriale che garantisce fornitura stabile, rigoroso controllo di qualità e consegna rapida.
Dettagli del prodotto
- Forma del prodotto: barra/barra cristallina
- Purezza: Hf+Zr ≥ 99,95%
- Diametro: Standard 20-40mm (Personalizzabile su richiesta)
- Imballaggio: imballaggio sottovuoto per prevenire l'ossidazione e garantire un trasporto sicuro.
Principali applicazioni
- Aerospaziale e superleghe: un additivo essenziale per le leghe ad alta temperatura utilizzate negli ugelli dei razzi, nei propulsori per il controllo dell'assetto dei veicoli spaziali e nei componenti dei motori aerospaziali grazie alla sua eccezionale resistenza al calore e alla corrosione.
- Target per semiconduttori e sputtering: funge da materia prima premium per la produzione di target di afnio ad elevata purezza, ampiamente utilizzati nei rivestimenti ottici e nei processi avanzati di deposizione di semiconduttori.
- Taglio al plasma: il materiale di base per la produzione di fili ed elettrodi di afnio ad alte prestazioni, che garantisce eccellenti prestazioni di scarica e durata nelle apparecchiature di taglio al plasma.
- Industria nucleare: utilizzato nelle barre di controllo e nei dispositivi di protezione dei reattori nucleari, sfruttando la sua ampia sezione trasversale di cattura dei neutroni termici.
Composizione chimica tipica
| Elemento | Hf+Zr | Zr (personalizzabile) | Fe | C | N | O |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Contenuto (%) | ≥ 99,95 | ≤ 0,1 | ≤ 0,01 | ≤ 0,001 | ≤ 0,005 | ≤ 0,005 |

