990,95% de pureza Cristalina Rod de hafnio iodeto Barras metálicas refinadas para a indústria aeroespacial

Propriedades Básicas
Lugar de origem: China
Marca: zhuzhourunfeng
Certificação: CAS 7440-67-7
Número do modelo: Gama completa de especificações
Propriedades comerciais
Preço: POA
Condições de pagamento: L/C,T/T
Especificações
Form: Haste de Háfnio Purity: 99,95%
Material: Hafnium
High Light:

990

,

95% de pureza Rod de hafnio cristalino

Descrição do produto
Haste de háfnio cristalino de alta pureza 99,95% - barra de metal refinado com iodeto para energia atômica e indústrias aeroespaciais - corrosão superior e resistência a altas temperaturas

[Nome do produto]Haste de háfnio cristalino de alta pureza | 99,95% Mínimo | Classe Aeroespacial e Semicondutores

Principais destaques
  • Pureza Ultra-Alta: Alcança uma pureza de Hf+Zr ≥ 99,95% (3N5) ​​através da tecnologia avançada de Dissociação Térmica de Iodeto.
  • Composição personalizável: Conteúdo personalizado de zircônio (Zr) variando de 0,2% a 2,0% para atender a requisitos específicos de liga e aplicação.
  • Morfologia Premium: Fornecido em forma de haste/barra de alta qualidade, ideal para uso direto em fusão, preparação de alvo de pulverização catódica e trefilagem.
  • Fabricante direto: Capacidade total da cadeia industrial garantindo fornecimento estável, rigoroso controle de qualidade e entrega rápida.
Detalhes do produto
  • Forma do produto: Haste/Barra Cristalina
  • Pureza: Hf+Zr ≥ 99,95%
  • Diâmetro: Padrão 20-40mm (personalizável mediante solicitação)
  • Embalagem: Embalagem selada a vácuo para evitar oxidação e garantir transporte seguro.
Principais aplicações
  • Aeroespacial e Superligas: Um aditivo essencial para ligas de alta temperatura usadas em bicos de foguetes, propulsores de controle de atitude de naves espaciais e componentes de motores aeroespaciais devido à sua excepcional resistência ao calor e à corrosão.
  • Alvos semicondutores e sputtering: Serve como matéria-prima premium para a fabricação de alvos de háfnio de alta pureza, amplamente utilizados em revestimentos ópticos e processos avançados de deposição de semicondutores.
  • Corte a plasma: O material principal para a produção de fios e eletrodos de háfnio de alto desempenho, garantindo excelente desempenho de descarga e durabilidade em equipamentos de corte a plasma.
  • Indústria Nuclear: Utilizado em hastes de controle e dispositivos de proteção de reatores nucleares, aproveitando sua grande seção transversal de captura de nêutrons térmicos.
Composição Química Típica
Elemento Hf + Zr Zr (personalizável) C N Ó
Contente (%) ≥ 99,95 ≤ 0,1 ≤ 0,01 ≤ 0,001 ≤ 0,005 ≤ 0,005

990,95% de pureza Cristalina Rod de hafnio iodeto Barras metálicas refinadas para a indústria aeroespacial 0

990,95% de pureza Cristalina Rod de hafnio iodeto Barras metálicas refinadas para a indústria aeroespacial 1